季丰新购球差电镜HITACHI HF5000正式投入运营

为了更好地满足客户对球差透射电镜的测试需求，季丰电子投资了业界认可的球差场发射透射电子显微镜HITACHI HF5000，目前已通过验证，正式投入运营。 TEM是芯片工程物理失效分析的终极利器，以其无以伦比的分辨能力，提供最细致深入的材料和工艺的异常分析。

(HITACHI HF5000)

HF5000是日立新的200kV球差校正场发射透射电镜，采用冷场发射电子枪和全自动化的球差校正技术，在保证亚埃级超高分辨率的同时大大简化操作，实现高分辨观察与易用性的结合。TEM晶格像分辨率达到0.102nm，STEM分辨率0.078nm，搭配高端Helios 5系列FIB系统可以制备、观察厚度在20nm以下的超薄样品。4k × 4k 16M Gatan相机可在 64 位平台上提供大视场、高灵敏度快速成像。

Si（211）单晶体HAADF-STEM图像（左）和图像强度曲线分布（右下）、FFT功率谱（右上）

此外TEM配备了对称布置的双100 mm2 高立体角能谱检测器( “Dual SDD”)，以最大限度提高分析通量，可对材料表面微区成分以及膜层结构进行面、线、点分布的定性和半定量分析。 季丰电子实验室拥有多位经验丰富的电镜工程师，熟悉各种半导体样品、薄膜样品、金属样品等，为客户提供准确、高质量的分析结果，欢迎新老用户前来咨询、委案。

客户失效发射验证

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