• 1
  • 2
  • 3
  • 4

首页 / 行业

益华计算机宣布已与台积电合作 助推台积电5纳米FinFET制程技术制造交付

2019-05-07 16:29:00

益华计算机宣布已与台积电合作 助推台积电5纳米FinFET制程技术制造交付

Cadence客制/类比工具获得台积电领先业界的5纳米制程技术认证,这些工具包括Spectre加速平行模拟器(APS)、Spectre eXtensive分割模拟器(XPS)、Spectre RF选项、Spectre电路模拟器、Voltus-Fi客制电源完整性解决方案、Pegasus验证系统以及VirtuosoR客制IC设计平台,其中包括Virtuoso布局套装EXL、Virtuoso原理图编辑器及Virtuoso ADE产品套装。

益华计算机(Cadence Design Systems)宣布已与台积电合作,实现顾客在行动高效能运算(HPC)、5G和人工智能(AI)应用领域的新一代系统单晶片(SoC)设计上的台积电5纳米FinFET制程技术制造交付。

凭借着双方的努力,Cadence数位、签核与客制/类比工具业已获得设计规则手册(DRM)及SPICE v1.0认证,并且Cadence IP也已可配合台积电5纳米制程。具备整合式工具、流程及方法的对应制程设计套件(PDK)现已可供于传统及云端环境使用。此外,共同顾客业已利用Cadence工具、流程及IP完成多项台积电5纳米制程技术的完全制造开发的下线。

台积电的5纳米制程率先业界利用极紫外光(EUV)光刻达到制程简化的效益,而Cadence的全面整合数位实现与签核工具流程也已取得此项制程的认证。Cadence全流程包括Innovus实现系统、Liberate Characterization Portfolio、Quantus萃取解决方案、Tempus时序签核解决方案、Voltus IC电源完整性解决方案及Pegasus验证系统。

针对台积电5纳米制程技术优化的Cadence数位与签核工具,提供关键层EUV和相关新设计规则支援,协助共同顾客减少重复并达成性能、面积与功耗(PPA)改良。 5纳米制程的最新提升包括运用Genus合成解决方案的预测性辨识通路铜柱合成架构以及在Innovus实施系统和Tempus ECO中的细胞电迁移(EM)处理用脚位存取控制走线方法,还有Voltus IC 电源完整性解决方案中的统计EM预算分析支援。新近取得认证的Pegasus验证系统支援所有台积电实体验证流程的5纳米设计规则,包括DRC、LVS及金属填充。

Cadence客制/类比工具获得台积电领先业界的5纳米制程技术认证,这些工具包括Spectre加速平行模拟器(APS)、Spectre eXtensive分割模拟器(XPS)、Spectre RF选项、Spectre电路模拟器、Voltus-Fi客制电源完整性解决方案、Pegasus验证系统以及VirtuosoR客制IC设计平台,其中包括Virtuoso布局套装EXL、Virtuoso原理图编辑器及Virtuoso ADE产品套装。

Virtuoso研发团队与Cadence IP事业群持续且密切地合作,运用建立于最新Virtuoso设计平台上的尖端科技客制设计方法开发5纳米混合讯号IP。藉由持续提升台积电5纳米制程及其他先进节点制程Virtuoso先进节点和方法平台上的设计方法和能力,让顾客能够突破传统非结构式设计方法的限制,达成更佳的客制实体设计产能。

新的Virtuoso先进节点与方法平台(ICADVM 18.1)具备建立5纳米设计所的特性和机能,包括加速横列客制化放置与走线方法,这种方法可帮助使用者改善产能并提升对于复杂设计规则的管理。Cadence导入多项支援5纳米制程的新功能,包括堆栈型闸极支援、通用多网格对齐、面积规则支援、非对称上色与电压依存性规则支援、类比单元支援及对于台积电5纳米技术项目中所包含各种新装置和设计限制的支援。

Cadence正在开发独到的先进节点IP产品组合以支援台积电5纳米制程,其中包括高效能存储器子系统、极高速SerDes和高效能类比以满足对于HPC、机器学习(ML)及5G基地台的需求。随着台积电5纳米设计基础设施的推出,Cadence与台积电积极协助顾客解决越来越多应用领域的最新IP要求,实现新一代的SoC开发。

台积电模拟器选项交付

  • 1
  • 2
  • 3
  • 4

最新内容

手机

相关内容

  • 1
  • 2
  • 3

猜你喜欢