euv光刻机难在哪里

　　“缺芯少魂”一直是国内科技行业的最大技术短板，尤其是在芯片这一核心领域，我国绝大多少企业都依赖进口。

　　在半导体制造过程中，光刻机是最核心的设备，同时，也是研发难度最高的设备。

　　然而，全球拥有DUV光刻机制造能力的企业屈指可数，高端的EUV光刻机设备也只有荷兰ASML能生产。

　　那么euv光刻机到底难在哪里，为什么其他公司做不出来？

　　首先一台顶级的EUV光刻机重大180吨，其中涉及了数十万零部件，不仅工种繁多，且技术要求严格，据悉仅安装调试的时间就需要一年左右。ASML的EUV光刻机是集结了全球先进的产业链，将诸多零部件进行整合，才能集成一台EUV光刻机设备。EUV光刻机是全世界的技术结晶，让一个国家或者一个地区做一个光刻机是不现实的。

　　对于EUV光刻机来说，主要有三道难题：光刻机软件、光源、对准系统、反射系统。

　　光刻机软件：目前能做光刻机商用软件架构的，全中国还没有一个。

　　光源：EUV用来光刻的光不是激光，而是由激光激发的二次发光。

　　对准系统：超精密对准系统的难度是几个核心技术中相对比较低的。

　　反射系统：为了不让光被吸收，肯定不能用折射系统，那只能用反射系统，普通的金属反射镜也是不行的，而且光学系统有好多块反射镜，如果反射率低了，那反射到后面能量就没了。

　　文章综合靠谱科技社、虚哲内观、科技在前方

　　编辑：黄飞

核心机研光刻半导体

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