国产光刻机最新进展2021

目前，我国的中国电科、上海微电子和长春光机所三个机构接到研发光刻机的任务。

上海微电子也是在今年正式推出了28纳米DUV光刻机，长春国科也正向28纳米节点的光学系统攻光，也是预计在今年将取得新突破。

众多周知，中芯国际目前正在积极的对28纳米芯片进行扩产，然而对于国内而言28纳米也是刚需，并且产能也十分紧缺，但不管怎样，上海微电子28纳米光刻机的落地，将会大大缩短了国产化28纳米的时间。

审核编辑：姚远香

最新进展芯片机构研发

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