ASML最新一代EUV光刻生产效率增加18%

本土晶圆代工企业崛起之际，设备进口议题备受关注。光刻机龙头ASML近日表示，从荷兰向中国出口DUV光刻机无需许可证。

“根据当前法规，ASML无需获得美国出口许可证便可以继续从荷兰向中国客户出货DUV光刻系统；对于直接从美国发货系统或零件到受法规影响的客户，ASML需获得许可证。”光刻机龙头ASML总裁兼CEO Peter Wennink 在最新季度财报说明会上对中芯国际等中国客户的出货情况做了解释。

ASML近日公布了光刻机产品的最新进展。其中TWINSCAN NXE:3600D作为其目前研发中的最先进光刻机系统，终于敲定最终规格。具体来说，30mJ/cm2的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆，提高了18%的生产率，并改进机器匹配套准精度至1.1nm。

3600D定于2021年中旬出货交付，客户还需要一定时间等待，价格应该不会低于现款老型号的1.2亿美元。

目前，ASML已经投产的最先进光刻机是3400C，但主力出货型号是3400B。参数方面，3400B的套刻精度为2nm、曝光速度20mJ/cm2，每小时可曝光125片晶圆。

另外，ASML透露，3400B在三季度也完成了软件升级。全新的DUV光刻机TWINSCAN NXT:2050i已经在三季度结束验证，四季度早期开始正式出货。

据悉，在截止9月30日的单季度，ASML共获得60台光刻机收入，出货了10台EUV光刻机。关于最为先进的EUV光刻机出口中国的政策，ASML并未提及。

本文由电子发烧友综合报道，内容参考自ASML,CnBeta，转载请注明以上来源。

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