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英特尔公布三项黑科技 开启高性能芯片架构新领域

2019-07-13 14:45:00

英特尔公布三项黑科技 开启高性能芯片架构新领域

美国英特尔于9日(美国时间)在旧金山举行的“SEMICON West”上发布了三项与封装技术相关的新科技。

第一种是“Co-EMIB”技术,它结合了英特尔的封装技术“EMIB(嵌入式多芯片互连桥接器)”和“Foveros”技术,其中逻辑是三维堆叠的。

EMIB和Foveros使用高密度互连来实现低功耗,高带宽的芯片到芯片连接。在英特尔,I / O密度与竞争对手的方法类似或更好。

Co-EMIB此次宣布将能够结合更高的计算性能和功能,特别是在单个芯片中实现多个Foveros堆栈并将它们互连。您还可以使用高带宽和超低功耗连接模拟,内存和其他“磁贴”。

第二个“全向互连(ODI)”为封装中芯片之间的通信提供了额外的灵活性,该技术允许顶部芯片与EMIB等其他芯片组合。与Foveros一样,可以进行平行通信,也可以通过基本芯片中的硅通孔(TSV)进行垂直通信。

利用ODI,可以通过使用大于传统TSV来直接从封装衬底向顶部管芯供电,并且由于通孔很大,因此电阻低,同时在提供强大功率的同时实现更宽的带宽和延迟。另外,因为可以减少基管芯所需的TSV的数量,所以可以进一步确保晶体管的面积,并且可以优化管芯尺寸。

第三个“MDIO”是基于AIB(高级接口总线)PHY级互连的新型管芯间接口。尖端IP块库用于实现模块化系统设计方法。这提供了更好的功率效率,并且是AIB的引脚速度和带宽密度的两倍以上。

英特尔先进的封装技术可实现多芯片与多种工艺技术的集成,而不是将多种功能集成到单个传统芯片中,芯片的物理尺寸有限据说可以在改善性能,功耗和封装面积的同时重新思考系统架构。

芯片封装英特尔密度

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