新思科技成为首个获得三星EUV技术5LPE工艺认证的平台

新思科技近日宣布，三星(Samsung Electronics)认证了新思科技Fusion Design Platform™，用于三星采用EUV光刻技术的5纳米Low-Power Early(早期低功耗，简称“LPE”)工艺。人工智能(AI)增强型云就绪Fusion Design Platform提供前所未有的全流程设计实现质量和设计收敛速度，实现三星5LPE工艺技术提供的超高性能和低功耗，加速新一波半导体设计的开发，包括高性能计算(HPC)、汽车、5G和人工智能细分市场。

“7纳米产品的交付以及5纳米工艺开发的成功完成，证明了我们在基于EUV节点方面的能力。使用新思科技Fusion Design Platform，我们的共同客户将能够设计出最具竞争力的5LPE系统级芯片(SoC)产品，以满足超高性能和低功耗应用的需求。新思科技仍然是我们的首选厂商，在新节点开发和实现方面开展合作，因此我们的代工厂客户可以放心地在所有细分市场(包括汽车、人工智能、高性能计算和移动)提升他们的设计。”

——JY Choi

三星设计技术团队副总裁

三星代工厂使用64位Arm® Cortex®-A53和Cortex-A57处理器设计(基于Armv8架构)为Fusion Design Platform提供了认证。

平台认证芯片早期

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