IBM发布全球首个2纳米芯片制造技术

2021年5月，IBM发布全球首个2纳米芯片制造技术，首颗2nm工艺芯片用EUV光刻机进行刻蚀在指甲大小的芯片上，集成了500亿颗晶圆体，IBM通过与AMD、三星率先推出测试芯片，处于全球领先地位。

这款先进的2纳米芯片可能要比人类DNA单链都要小很多，比7nm芯片提升大约45%，芯片上更多的晶体管也意味着处理器设计人员拥有更多选择，可加快应用程序处理速度，加强语言翻译辅助功能等。

目前台积电、三星等巨头都纷纷进攻2纳米芯片，三星电子还计划从2025年开始生产基于GAA的2纳米芯片，台积电预计将从 2 纳米芯片开始引入GAA 工艺，并在 2026年左右发布第一个产品。
本文综合整理自澎湃新闻 铁血观世界 搜狐

审核编辑：彭静

芯片测试刻蚀首个

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