2nm工艺战打响 台积电2nm开发走上正轨

根据 Gartner 分析师 Alan Priestley 的预测，0.55 NA EUV 光刻机单价将翻番到 3 亿美元（约合 20 亿元人民币）。

即便如此，0.55 NA EUV 光刻机还是得到了芯片厂商的火热预购。毕竟，这是研发 2nm 工艺的芯片的必选项。

随着 0.55 NA EUV 光刻机量产提上日程，芯片厂商的“2nm 工艺战”也将彻底打响。

最先进的节点92%来自中国台湾台积电，台积电在开发2纳米芯片的量产技术方面处于领先地位。2019年，台积电便宣布启动2nm工艺的研发，使其成为第一家宣布开始研发2nm工艺的公司。

就在今年6月 5日台积电宣布将投资1 万亿新台币扩大2nm工艺芯片的产量。

台积电的2nm开发已经走上正轨，魏哲家表示，台积电2纳米技术去年已经进入技术开发阶段，着重于测试载具的设计与实作、光罩制作、以及硅试产。

同为美国公司的英特尔公司也在进行 2 纳米工艺的研发。据英特尔的最新路线图，2024 年上半年英特尔的Intel 20A（20 埃 = 2nm）工艺将亮相，新节点将带来 15% 的性能提升。

早先日本已经吸引了台积电赴日本建立晶圆厂，但该工厂将只生产从10nm到20nm 范围的不太先进的半导体。此次启动与美国的合作，也代表了日本向2nm先进工艺进击的决心。

文章综合AI前线、半导体观察

台积电芯片厂商光刻工艺

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