ASML最新一代EUV设备2025年量产,半导体,产品,艾司,节点,代工,当前半导体制程微缩到10纳米节点以下,包括开始采用的7纳米制程,以及未来5纳米、3纳米甚至2纳米制程,EUV极紫外光光刻技术已成为不可或缺的设备。藉由EUV设备导入,不仅加快生产效率、提升良率,还能降低成本,使不仅晶圆代工业者积极导入,连DRAM记忆体的生产厂商也考虑引进。为了因应制程微缩的市场需求,全球主要生产EUV设备的厂商艾司摩尔(ASML)正积极开发下一代EU...
2019-07-05 15:32:00行业信息产品 艾司 节点