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法学

  • 新思科技携手IBM,通过DTCO创新加速后FinFET工艺开发

    新思科技携手IBM,通过DTCO创新加速后FinFET工艺开发

    新思科技携手IBM,通过DTCO创新加速后FinFET工艺开发,上市,思科,工艺,半导体,法学,重点:采用新思科技Sentaurus、Process Explorer、StarRC、SiliconSmart、PrimeTime和IC Compiler II,DTCO方法学降低了先进半导体工艺开发的成本,并加快了上市速度。新思科技的精确材料、光刻、工艺和器件TCAD仿真器在晶圆生产出来之前即可对工艺选项进行评估。并行开展的标准单元库开发与使用IC Compiler II的模块级设计评估,使设计级指标得以用于...

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