能耗成了EUV光刻机的最大掣肘，纳米压印才是降低功耗的“正道”？，功耗,正道,控制系统,模具,适合,芯片，EUV光刻技术（Extreme Ultraviolet Lithography）是目前半导体芯片制造领域中最先进的ADM232AARN光刻技术之一，被广泛应用于制造高性能微电子器件。然而，EUV光刻机的能耗成为了其进一步发展的一大难题。在这种情况下，纳米压印技术被认为是一种能够降低功耗的“正道”。EUV光刻机的能耗问题主要源于两个方面：...
2023-10-30 13:09:00行业信息功耗 正道 控制系统
