准分子

• EUV光刻的两大挑战者，谁扛大旗？

  

  EUV光刻的两大挑战者，谁扛大旗？，光刻技术,EUV,摩尔定律，挑战者,摩尔定律,技术方面,准分子，过去二十年见证了193 nm以下波长光刻技术的发展。在使用 F2 准分子激光器开发基于 157 纳米的光刻技术方面付出了一些努力，但主要关注点是使用 13.5 纳米软 X 射线作为光源的极紫外 (EUV) 光刻技术。" /...

  2023-02-02 11:49:00行业信息挑战者 摩尔定律 技术方面

• 172nm准分子灯的特点、原理及应用

  

  172nm准分子灯的特点、原理及应用，显示器,硅晶片,紫外线，紫外线,准分子,显示器,光固化，在工业应用中，最常用的准分子波长是 172 nm。其 7.23 eV 的能量足以直接裂解有机分子的所有主要键，但碳和氧 (C=O) 之间的键和一些无机氧化物之间的键除外。这使其成为表面改性、光清洗、光固化的绝佳选择。" /...

  2022-02-16 13:52:00行业信息紫外线 准分子 显示器