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准分子激光

  • EUV不能只靠高NA,大功率光源也该提上日程了

    EUV不能只靠高NA,大功率光源也该提上日程了

    EUV不能只靠高NA,大功率光源也该提上日程了,EUV,EUV光刻机,光源,核心,等离子,准分子激光,友网,  电子发烧友网报道(文/周凯扬)作为目前最先进的半导体制造设备,EUV光刻机的诞生是由各个部件在技术上的集体突破才最终成型的,比如光刻胶、掩膜板和镜组等等。但最为关键的还是EUV名号中的极紫外光的生成方式,也就是EUV光刻机的光源。 EUV光刻机的核心光源 与传统的准分子激光直接生成的DUV光源不同,EUV采用的是一台二氧化碳气体激...

    2023-02-13 07:04:00行业信息核心 等离子 准分子激光

  • duv和euv光刻机区别

    duv和euv光刻机区别

    duv和euv光刻机区别,光刻机,DUV,EUV,方案,准分子激光,需求,覆盖,DUV已经能满足绝大多数需求:覆盖7nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的区别在光源方案。duv的光源为准分子激光,光源的波长能达到193纳米。" /...

    2022-07-06 15:56:00行业信息方案 准分子激光 需求

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