Vishay发布应用于国防和航天的新款QPL氮化钽薄膜片式电阻

　　宾夕法尼亚、MALVERN — 2012 年 11 月1 日 — 日前，Vishay Intertechnology, Inc.(NYSE 股市代号：VSH)宣布，推出通过QPL MIL-PRF-55342测试的新款表面贴装片式电阻---E/H (Ta2N) QPL，保证可靠性达到100ppm的“M”级失效率。新的E/H (Ta2N) QPL电阻使用耐潮的氮化钽电阻膜技术制造，为国防和航天应用提供了增强的性能规格，包括0.1%的容差和25ppm/℃的TCR。

 

　　E/H (Ta2N) QPL电阻适用于国防和航天应用的控制系统，这些应用需要考虑在潮湿条件下工作或长期的储存问题。器件的氮化钽电阻膜可确保耐潮水平超过MIL-PRF-55342限值的50倍。

　　E/H (Ta2N) Mil-PRF-55342薄膜电阻具有不到-25dB的极低噪声和0.5ppm/V的电压系数。电阻的卷绕式端接采用了一个粘性很强的粘合层，上面覆盖的电镀镍栅层可适应+150℃的工作条件，对典型电阻的影响小于0.010Ω。

　　新电阻采用01至12的M55342外形尺寸，功率等级为50mW～1000mW，工作电压为40V～200V，根据不同的容差，阻值范围为49.9Ω～3.3MΩ。

　　E/H (Ta2N) Mil-PRF-55342薄膜电容器现已量产，供货周期为八周到十周。

　　VISHAY简介

　　Vishay Intertechnology, Inc. 是在纽约证券交易所上市(VSH)的“财富1,000 强企业”，是全球分立半导体(二极管、MOSFET和红外光电器件)和无源电子元件(电阻器、电感器、电容器)的最大制造商之一。这些元器件可用于工业、计算、汽车、消费、电信、军事、航空航天、电源及医疗市场中几乎所有类型的电子设备和装备。凭借产品创新、成功的收购战略，以及“一站式”服务使Vishay成为了全球业界领先者。

测试芯片推出氮化电阻

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