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罗姆发布第二代SiC制MOSFET
2012-06-18 00:00:00
罗姆日前发布了耐压为1200V的第二代SiC制MOSFET产品(图1)。特点是与该公司第一代产品相比提高了可靠性、降低了单位面积的导通电阻,以及备有将SiC制肖特基势垒二极管(SBD)和SiC制MOSFET集成在同一封装内的新产品。
可靠性方面,第二代产品可抑制在MOSFET内寄生的体二极管通电时产生的导通电阻上升等特性劣化现象,单位面积的导通电阻比第一代产品降低约30%。
此次除了单独封装SiC制MOSFET的“SCT2080KEC”外,还有将SiC制SBD和SiC制MOSFET集成在同一封装内的产品“SCH2080KE”,这款产品无需外置SiC制SBD,有助于削减部件个数和封装面积。其优点是,与SiC制MOSFET的体二极管相比,获得相同电流值所需要的正向电压较小(图2)。
据介绍,此次是首次采用封装形式提供SiC制MOSFET,第一代产品是以裸片方式供应的,此次发布的第二代产品采用TO247封装。第二代产品的导通电阻为80mΩ,与第一代产品相同。预定2012年6月样品供货,7月开始量产。
另外,新产品预定参展2012年7月11~13日举行的“TECHNO 2012”。
图1:耐压为1200V的第二代SiC制MOSFET产品
图2:正向电压的比较
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